Halbleiterausrüstung – FEOL-Fotolithograp먹튀없는 바카라사이트 아톰카지노e
Bauen Sie Geräte, die den Durchsatz und die Ausbeute maximieren unter Verwendung modernster optischer und mechanischer Materialien und Komponenten.
- Extreme Stabilität Bauen Sie Wafer-Bearbeitungswerkzeuge mit Komponenten, die auf thermisch innovativen Materialien basieren.
- Langlebige Materialien Profitieren Sie von langlebigeren Optiken wie polykristallinen CVD-Diamantfenstern.
- Engere Toleranzen Profitieren Sie von den flachsten Wafertischen auf Basis von reaktionsgeb먹튀없는 바카라사이트 아톰카지노enem Siliziumkarbid (RB SiC).
Höhere Auflösung
Die Extrem-Ultraviolett-Lithographie (EUV) kann IC-Merkmale bis zu 5 nm und darüber hinaus liefern. Das Erreichen dieser Auflösung stellt jedoch hohe Anforderungen an jedes Teil eines Lithographiesystems, was die Schwingungsstabilität, das thermische Kriechen und die Ebenheit des Wafertisches betrifft. Coherent hat Pionierarbeit bei der Verwendung innovativer Materialien geleistet – darunter Hybridkeramik und Siliziumkarbide – um mechanische und optomechanische Komponenten zu entwickeln, die diesen Anforderungen gerecht werden. Wir bieten auch Optiken an, die den besonderen Anforderungen der EUV-Strahlung gerecht werden.
Lassen Sie uns beginnen
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Der Online-Einkauf von Produkten wie Laser, Glasfasern, Leistungsmessgeräte, Sensoren, Zubehör und vieles mehr war bei Coherent noch nie so einfach.
