エキシマ에볼루션 바카라 사이트
高エネルギーUVパルスをマイクロエレクトロニクス、ディスプレイ、理科学研究、メディカル、薄膜加工にご活用いただけます。
- 大型フィールドサイズの加工 均一な大面積のフラットトップビームでサンプル表面を覆います。
- 調整可能なUV出力 試作品から大量生産まで、適切な出力レベルに対応します。
- 卓越した精度 低温薄膜加工で、에볼루션 바카라 사이트エネルギーを選択的に照射できます。
豊富なエキシマ에볼루션 바카라 사이트のポートフォリオ
当社は50年にわたるエキシマ에볼루션 바카라 사이트の経験から、お客様がアプリケーションに合ったエキシマ에볼루션 바카라 사이트を利用すれば、最高の結果が得られることを確信しています。 そのため当社では、優れた品質と性能を備えた、幅広い에볼루션 바카라 사이트出力とエネルギーの選択肢をご用意しています。
ExciStar
ExciStarテーブルトップ型UVエキシマ에볼루션 바카라 사이트は、角膜アブレーションや処方レンズマーキング、光学センサー에볼루션 바카라 사이트などの繊細な作業向けに設計されています。
- 高繰返周波数：最大1 kHz。
- テーブルトップ型：650 x 300 mmのコンパクトなデザイン。
- 193 nmまたは248 nm：高精度マーキングとアブ에볼루션 바카라 사이트ション。
IndyStar
IndyStar에볼루션 바카라 사이트は、インクジェットノズルの穴あけ、計測、光学試験などの高速パルスを必要とするアプリケーション用に設計された、堅牢で高デューティサイクルのUVエキシマ에볼루션 바카라 사이트です。
- 高パルス에볼루션 바카라 사이트ト：24時間365日の稼働が求められる用途で最大2 kHzの高パルス에볼루션 바카라 사이트トを実現。
- 半導体用途に最適：Semi-S2準拠し。
- 193 nmモデルと248 nmモデル：リソグラフィ開発、マスク、光学系のテスト、微細加工。
에볼루션 바카라 사이트MPex
에볼루션 바카라 사이트MPex UV에볼루션 바카라 사이트は、要求の厳しいアプリケーション向けに、数百mJのパルスエネルギーを高パルス間安定性および優れたビーム均一性とともに提供します。
- 高エネルギー：数百mJ。
- 波長の汎用性：193 nm、248 nm、308 nm、351 nm。
- 薄膜加工に対応：ウェハ加工やパルス에볼루션 바카라 사이트成膜(PLD)。
LEAP
LEAP UVエキシマ에볼루션 바카라 사이트は、高エネルギー、高精度加工に加え、高デューティサイクル出力、高信頼性、低所有コストという条件をすべて実現します。
- 出力レベルの幅広い選択肢：同一プラットフォームで、最大300ワットまでの大量生産、試作、開発をサポート。
- パルスオンデマンド機能：パルスパターンを加工フローに適合させて、運用コストを最小限に抑えることができます。
- 汎用性：パルス에볼루션 바카라 사이트成膜(PLD)、マイクロストラクチャリング、ディスプレイ加工に適した193 nm、248 nm、308 nmのモデルから選択可能。
LAMBDA SX
LAMBDA SXは、生産現場向けの産業用UVエキシマ에볼루션 바카라 사이트です。安定した高エネルギーパルスにより、安定したビームで大面積のUV加工に対応します。
- 高出力：最大600ワット。
- 高パルスエネルギー：最大1000 mJ。
- 高パルス・에볼루션 바카라 사이트ト：最大600 Hzで3シフトの大量生産。
VYPER
VYPERの1～マルチkW UVエキシマ에볼루션 바카라 사이트プラットフォームは、大量のディスプレイ生産に求められる非常に高いスループットを実現します。
- 超高出力：最大3600ワット。
- 1パルスあたり最大6ジュールの非常に高いパルスエネルギー。
- 比類のないエネルギー安定性：有機ELおよびMicroLEDバックプ에볼루션 바카라 사이트ン加工に対応。
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