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엑시머 레이저

마이크로 전자공학, 디스플레이, 과학 연구, 의학 및 박막 처리에 고에너지 UV 펄스를 활용하십시오.

  • 대규모 필드 크기 처리균질한 넓은 면적의 평평한 상단 빔으로 샘플 표면을 덮습니다.
  • 확장 가능한 UV 전력사전 생산부터 대량 생산까지 전력 수준을 조정합니다.
  • 궁극의 정밀도저온 박막 가공에서 선택적으로 레이저 에너지를 증착합니다.
엑시머 레이저

가장 광범위한 엑시머 레이저 포트폴리오

엑시머 레이저 분야에서 50년의 경험을 바탕으로 우리는 귀하의 응용 분야에 맞는 엑시머 레이저를 사용하면 최상의 결과를 얻을 수 있다는 것을 알고 있습니다. 이것이 바로 우리가 우수한 품질과 성능을 갖춘 가장 광범위한 레이저 출력 및 에너지 옵션을 제공하는 이유입니다.

ExciStar 제품 이미지

엑시스타

ExciStar 탁상용 UV 엑시머 레이저는 각막 절제, 처방 렌즈 마킹 및 광학 센서 제조를 포함한 섬세한 작업을 위해 설계되었습니다.

  • 높은 반복률 - 최대 1kHz.
  • 탁상형 - 650 x 300mm 설치 공간.
  • 193 nm 또는 248 nm - 정밀 마킹 및 절제.
IndyStar 제품 이미지

인디스타

IndyStar 레이저는 잉크젯 노즐 드릴링, 계측 및 광학 테스트와 같은 빠른 펄스 응용 분야를 위해 설계된 견고한 높은 듀티 사이클 UV 엑시머 레이저입니다.

  • 높은 펄스 속도 - 연중무휴 애플리케이션에서 최대 2kHz.
  • 세미콘 애플리케이션 - Semi-S2 규격.
  • 193 nm 및 248 nm - 리소그래피 개발, 마스크 및 광학 테스트, 마이크로 프로세싱.
COMPex 제품 이미지

COMPex

COMPex UV 레이저는 까다로운 응용 분야에 대해 높은 펄스 간 안정성과 탁월한 빔 균일성을 통해 수백 밀리줄의 펄스 에너지를 제공합니다.

  • 고에너지 - 수백 밀리줄.
  • 파장 다양성 - 193 nm, 248 nm 308 nm, 351 nm.
  • 박막 처리 지원 - 웨이퍼 처리, 펄스 레이저 증착.
도약 300

도약

LEAP UV 엑시머 레이저는 높은 듀티 사이클 출력, 신뢰성 및 낮은 소유 비용을 결합하여 고에너지, 고정밀 가공을 제공합니다.

  • 다양한 전력 수준 선택 - 동일한 플랫폼이 최대 600와트의 대량 제조, 사전 제작 및 개발을 지원합니다.
  • 펄스 온디맨드 - 펄스 패턴을 프로세스 흐름에 맞게 조정하여 운영 비용을 최소화합니다.
  • 다용도 - 펄스 레이저 증착, 미세 구조화 또는 디스플레이 처리를 위한 193nm, 248nm 및 308nm 모델 중에서 선택하세요.
LAMBDA SX 제품 이미지

람다 SX

LAMBDA SX는 생산 현장을 위한 산업용 UV 엑시머 레이저로, 빔 안정성으로 대면적 UV 처리를 지원하는 안정적인 고에너지 펄스를 갖추고 있습니다.

  • 고전력 - 최대 600와트.
  • 높은 펄스 에너지 - 최대 1000mJ.
  • 높은 맥박수 - 최대 600Hz의 3교대 대량 생산.
바이퍼

바이퍼

VYPER 킬로와트부터 멀티 킬로와트까지의 UV 엑시머 레이저 플랫폼은 대량 디스플레이 생산을 위한 최고의 처리량을 제공합니다.

  • 매우 높은 전력 - 최대 3600와트.
  • 매우 높은 펄스 에너지 - 펄스당 최대 6줄.
  • 탁월한 에너지 안정성 - OLED 및 MicroLED 백플레인 처리를 지원합니다.
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