UV레이자 시스템
独自の高EnergiUVrayzaを、LTPS、LLO、LIFT、PLD、LA-ICP-MS등을 비롯한 모든 기술을 발전시키는 광학 시스템을 사용하고 있습니다.
- 垂直統합長寿命の레이자,옵티크스,構造により、리스크を回避し、24time365日동작可能。
- 実績のあRU産業用ツー르고성도 모바이르디스프레이와 같은 종류의 제품입니다.
- UV波장오프션193nm, 248nm, 308nm시스템과 카스탐157 または351nm오프션으로부터 選択可能。
UV레이자프로세스데当지회사의 専gate識を活용
50년에 わたRUUV레이자와 광학 시스템의 원리는 当社에서는 에키시마레이자빔의 원리, 형태 형성, 集束に関с RU課題に精일반적으로 마스입니다.当社에서 は、垂直統合を活用して、最も厳しい基準に合わせて시스템 전체가 시스템 전체에 해당됩니다.
UV트랜스퍼
UVtransfer 레이자 시스템은 は、次代microLED디스프레이의 製造에 たけ RU 専 用 앱 리 케이 션 を 사 포트 시 てい 마스 。
- 하이스루풋트 - 高에네르기에키시마레이자니요루大型피르드사이즈노사포트。
- 未来につながuru - 50 ～ 5 µmのdainosizeを処리。
- 研究開発에서 大液生産まもしに対応応는 3つのtonkey-sorusion.
라인빔
LineBeam에키시마UV레이자데에, 높은 생생산력으로 큰 키나하 지파네르의 低温포리시리콘(LTPS)백프레인を大weight製造dekimas。
- 긴 라인빔 - 最大1500mm。
- 높은均一性 - 0.6%(2σ)。
- 焦点深degreeが大善 - 最大±150 µm。
UV블레이드
UVblade에키시마레이자は、光効率が良KU、라인장토 에네르기 성능의 拡張性에 더해 비용이 많이 들기 때문에 비용이 많이 듭니다.
- 높은均一性 - 1.8%。
- 焦点深道が大善 - 最大±200 µm。
- 고파르스에네르기 - 最大2000mJ.
에키시마빔伝送오프틱스
고파르스에네르기, 短紫외부 장장, 고출력노유니크나組umi합와せに最適化 れたEkishimabim伝送用の優れたoptmecanickarturturを入手して し だ い 。
- 빔노토일화 - 流れの変동が5%以下。
- 可変減衰 - 正確な에네르기제조。
- 画image投影のmask - 4~10Xの縮小倍率。
바리오라스
VarioLasEkishimaUVrayzaは、強力なCOMPexEkishimarey 자を베이스에、라인빔마타에스크에아빔피르드형상에 의해 고품질이 UV微細加工を実現しまс。
- 높은에네르기 치수 - 最大7.5（J/cm²）。
- 多目的 kaつ調整可能 - 라인마타는 스크에어프로파일입니다.
- 고광학분류 - ≥ 5 µm。
GeoLasGC
GeoLasGC에키시마UV시스템は、193 nmpars、고성도 광광顕微鏡、HDcamera観察を組mi合わせて、레이자아브레이션ICP-MSを実現しまс。
- 고광학분체 - 1μm。
- 더 많은 산프르스폿2 - 160 µm.
- 優れた파르스안정성 - 1%(rms)。
注目の블로그
마이크로LED디스프레이토は。
마이크로LED(μLED)는 は、鮮やなな高解解彈島디스프레이を生成成比較의 새로운 技術입니다。今5년 간격으로 µLED디스프레이는 100億drを超えurucity場に成長し、레이자はその生産を可能に可能に可能に役な役割を果たしましまс。
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