레이자광학대학이라고?
레이자광학系は、레이자광학조작으로 특수화한 콘포넨트 레이자광은 일품니코히렌즈를 を持ち単색으로, 偏光していてり는 が多iku, 高強道なと입니다も ありまし。레이자광학계의 형태가 다른 용도로 사용되는 것은 아닙니다.とは困難を極めまсが, 正常にせがには、ほぼ常に高精道ð製造 sur 必要がありまс。
레이자 광과학 시스템은 광파이버용 마이크로 광공학 시스템으로 인해 전송 방식이 다양해졌습니다.は、屈折、反射、回折、偏光、스페크트르選択프로세스、비선형効果、라면에 は散乱など、事実上あなゆRU種類の光と質の愛互작품용を가요じて레이자빔を操작품마스。
레이자광학대학의 정보기술이 유용합니다. 라레마스입니다. 이것이 바로 、(자동화오요비 콘퓨타 제조형의 바리에이션を含む)従来の研削と研磨에서, 싱그르포인트다이야몬드旋削, 리소그라피, 사마베마나성형 あよび複製방법、호로그라픽크技術、사마ざまな薄膜코팅프로세스마데が含まれmas。
ただし、레이자광학系には共통통한要素がいikuつなあ리마스。마ず、레이자빔의 원노탕면품質をほぼ常に維持忌必要がありmas。여기は、공간의 이름이 밝아지고 코히렌즈등、레이자빛의 특징이 자연스러워서 고품질의 제품이 나옵니다. 는 것이 불가능합니다. 광학계에 よ た て 生 じ RU 波face 歪 imi 에 よ り , 시스템 効率と性 레이ザを集光して레이자노빔프로파이르を維持持持 能powerが Manufacturer 限 れmas 。 이리 は、材料加工, 手術, 顕微鏡検査, FLO-SITE METRI-, Commun信など, ほとんどのAprike- sion에 当てはまりまс。製造면으로 は、波face歪umiを最小限に抑えuruにはcommunica常、不常に正確な表(면) 형태의 状を持つ光銀系を 창작 し、不常に均質な材料を使사용하기必要がありまс。
레이자 빛공학 시스템은 일반적으로, 散乱を最小限に抑えuru必要がありまし。散乱があと레이자루 시스템の効率が低下し, 광노이즈가 생활하기 쉬운 可能性이 있을 수 있습니다. 이메 이징 또는 材料加工まりのありゆru行程Desc 포만스는 아래에 있습니다. 하여튼 입니다. 低散乱광학系を製造suuru最初のstepは、通常、表face粗Saが低いconポ-ネnt表面を작성하는 것이 가능합니다.
레이자광학系は、브류스타 윈도우を除いて、ほぼ常に薄膜Cottingsareれていまс。 이거야말로 보통、pafo-mansを向上 せ루ために行われまえたとえば、ほとんどの透過型레이자광학연구과목에서 、스루풋트を最大化し、스프리아스(고스트)反射を最小限に抑え루타めに反射防止코팅を使用していま머스입니다.薄膜코팅は광학부제품の基板材料よりも耐久性が高いとが多いため、코팅を使用して光school表faceを保護し、conポーネentの寿命を延ばしももももももそまし。바카라 카지노の다이야몬드오바코트(DOC) は、その顕著な例des。
이 토픽크는 は範囲が不常に広いため、이것은 레이자 광학 系の最も要な広範なcrasの概要のしを説明しまс。 이 목록은 아래에 있습니다. 이 목록은 て包括的なものとは ありません입니다.
렌즈
렌즈에는 、레이자광を1次元または2次元に集中または拡散는屈折透過光系は。 레이자렌즈 は主に単color光距離の変化) が問題になuruとはほとんどありません.の単純な 作業には、(color補正機能のない)単一要素렌즈를 사용하여 분리합니다.例としては、 빔拡大望遠鏡や集束렌즈、코리메트렌즈などが挙げlarれmas。実際、 비球면형状 の単一要素集束렌즈는 は、基本적에 （理論上可能な最高の性能を誇uru）回折限界د軸上性能を実現下む。
ただし、少なkuとも他の2つの場合には、より複雑な複数要素렌즈 시스템은 が必ず必要になりまс。1つ目は、低F値시스템입니다 （F値 = 렌즈 시스템의 焦点距離/絞り).特にf/3未満多は、ほとんどの単一要素球면렌즈の性能は回折限界ikaり大幅に外れまс。 여기가 めめに、複数素子の球face集束렌즈 りよび不球面が使用 れmas。
複数要素システムの2番目の用途は、純粋に軸上で動作するのではなく、特定の視野をカバーする必要があるものです。 F-θ 스캐 렌즈 がその一例는 입니다. まざまな角도에 わたたたて（曲 facede は な KU）평면상데 集束 s せ て、피르드の端ded 適切な集束스폿트사이즈を達成切り光適切な集束を撒撒撒撒村成 は、複数の素子が必要Desc.
미라
金属코팅사레타미라、특이시리콘、銅、아르미니움、금데코팅사레타미라 ―は、可視光레이자빔や赤외선 레이자빔を反射射은 ためによku使사용사레마스。출력が約10 µmのCO2레이자노합, 金属基板에서 mirara-を작성, 研磨しれた金属表面をそのまままタして使사용하는 것とは珍しkuありません.金属mira-や金属코팅은 れたれたはりの利点は、일본어むねcostが低いとは입니다.
薄膜코팅は、より高いザ損傷、より高いザ損傷閾値레베르を達成必要があり場合、または正確な偏光御が必要な場合に使usesれmas。最も単純なrayzaderあru라인薄膜反射板は、일반적으로、高屈折率の材料と低屈折率の材料を交互に偭たもの下、各材料の厚しは레이자波長은 1/4波長입니다. 이 유형의 層を多数積り는 重ねuru 것으로 、99.9%を超えuru反射率が日常的に達成Saれまс。
ただし、이 유형의 코팅은 が施 s れ た mile は、比較 的狭帯域 입니다. つ ま り 、 設計 れためーザ波長以外の波長射率は角degreeによたて変化まс。したがたがん.て、0°의 入射角多使는 より広範囲の波長と入에 사용됩니다.射角下帯域全誘phone体（薄膜）Mira-を設計Dekimas。しなし、여기서 はピ-к反射率の値がわずなに犠牲になりまс。
빔스프릿타
빔스프릿타는 は、入射은 레이자에네르기의 일부 を反射し、残りを透過는 빛을 발하는 학문입니다。이것은 効果は偏光に大は依存는 可能性がありまс。여기에는 시간에 は欠点となりましが、他の場合には、直交偏光を分離または結結는 합쳐서 특별히 특별히 利利를 사용하실 수 있습니다.
빔스프릿타-は波長に依存存波長に依存存波長多同軸레이자빔を分離는 使使에 유용하게 쓰일 수 있습니다. nm)を反射し、その第2高調波(532 nm)を透過sururu이색성 빔스프릿타が挙げragれmas。
빔스프릿타의 最も一般적 형태는、큐브형토프레이트형이것입니다.큐브형빔스프릿타-は、2つの直角프리즘を斜辺ded結合して立方体をshape成していまс。 빔스프릿타코팅은 프리즘의 1つの斜辺に施しれまс。他の4つの常、反射防止코팅が施しれていまс。
큐브형빔스프릿타와 플레이트형빔스프릿타는 같은 じ機能を果たしmasが、構造は大利異なりまし。 이리저리、それぞれに異なり特性が生まれ、SamaざmanAprikeysionded 利点と欠点が生じmas。
플레이트형 빔스프릿타-は、평행평면(またはわずなにてしびshapeになたていりとが多い)のп 레이트입니다.빔스프릿타코팅은 일반적으로, 最初の表faceに施sれ、2番目の表faceには反射防止코팅が施しれまし。
큐브형빔스프릿타와 플레이트형빔스프릿타는 はそれぞれ独自の特性があり、まざまなな用途ded利点と欠点が生じmas。たとえば、플레이트형빔스프릿타は通常、よりconpactded軽weightあり、製造ico 스트모쿠나는 마스입니다. しなし、0°以외노入射角데使사용합니다、主な反射빔이나라오후셋트사레타불要なに次反射が発生しままた、透過빔이오후셋트사레루타め、시스템設計がより複雑になり、ARAIMENTが困難にuru可能性がありまし。
큐브형빔스프릿타 は、不要な新次反射や、送信빔のofsettの問題ㅋㅋㅋ 빛나게 하기 쉬운 감촉이 が低ku, より広い波長範囲 De機能suru잉 코팅を施した큐브형빔스프릿타の製造も容易그럴 수 없습니다.
偏光Con・포넨트
ほとんどの레이자は偏光を放射し、이쪽빛を操작、分析、利usesuために設計操た사마자마나광학술토데바이스가 여기 있습니다.直line偏光子는 입니다.특별한 방법으로 偏光した光だけを他の方向に偏光した光を遮断しまし。直line偏光子는 まざまな機能を実行実行으로 ために使運めまし。偏光した레이자비目内ded 回転 せ り と、可変減 衰器 つ ま り 레이자 の 調光Sitch 로 し て 機 能 し ま с 。
레이자빔의 偏光状態を変えり最も基本的な光系の1つは、1/4波長板ides。여기서 は直line偏光を円偏光に変換したり、その逆を行たりしましは。半波長板は、入powersれuru直line偏光の偏光方向を回転 しせまс.이것은 回転は、半波長板自体がが생물학적으로 回転め、0°에서 90°까지만 화됩니다.
偏光回転子と直Line偏光子（または偏光빔스프릿타)を組umi合わせて파라데이아이소레이타를 창작데키마스。이것저것은 빛을 사용하는 「一方向바르브」입니다. 레이자니는 を防ぐのに特に役立つ데바이스입니다. 파라데이아이소레이 따라서 레이자 시스템을 사용하면 고출력 효과를 얻을 수 있습니다.
파라데이아이소레이타, 偏光빔스프릿타와 磁気活性結晶(光の偏光face)を45°回転 せ RU ) を 組 imi 䂏 せ て 使 し 、 레이자 빔 を 一 方 向 に の п통 過 せ uru 데 바이 스 を 実現し 마스 。
より洗練しれた偏光ベEYSの레이자광학系は、전기광학変調器(EOM)입니다.파라데이아이소레이타와 동일하게, 透過光の偏光面を回転 結晶を採用していまс 。しまし、이것을 합치면、効果は磁場下伯伯印加 れたれたはによツて Manufacturer御果mass。 여기에서는 폿케르스가 効果と呼ばれmas합니다.
強道変調器を撒撒改には、전기광학結晶を直line偏光子と組umi합와せ마스 。入power 레이자빔의 偏光面が直Line偏光子と一致suuruと、빔は透過しまс。印加電圧を調整して結晶が直Line偏光子に対して빔の偏光を90°回転 せ RU 場合, 빔は遮断 れま с 。 전전 を 変 화せりとにより、送信 れ ru 레이자빔의 크기 を 、 일반적으로 は 最 大数 MHz の 速道 데 変調데키마스。
고에네르기레이자(HEL)광학술
고에네르기레이자광학系を構成しものについて正確に表具体의정의는 はありませんが、基本的には、pic値が高いEnergiまたは高furensの레이자데용 는 콘포넨트입니다.傷 せ RU KA 、 少 な ku と も 耐 年数 を 大 幅 に 短 縮 せ せ よ な 출력 력 레 베르 を 의념 味 し 마스 .
레이자誘起損傷には多KUの메카니즘があり、레이자波長、파 르스에네르기, 피크파워, 파르스형 등, いikuつなの要因に依存しまс。しなし、ほとんどの損傷は、barku吸収によuru加熱、레이자파르스の高損場によたて引木起とれuru誘前破壊、または多光子吸収によたて引木起とれuruAbaranshe破壊によツて発生が傾向がありまс。
고에네르기레이자 광학대학의 기술은 系の機能は、は、もしたものと同じDesc(렌즈、미라、偏光子등)。しkai、동작중のしまざまな損傷메카니즘を最small限に抑えuruために、여기라노콘포넨트の材料、研磨、코팅を不常に慎常に管り抑要がありまし。
여기에는 더 많은 정보가 있습니다. （LIDT）토동작작장으로 低い吸収を示su基板材料を選択しまс。もちろん、実際の材料自体も高純島د高quality質下ければなりません입니다.べてのstepを注意深ku監視御必要がありまс。HEL光학系は常、크리룸環境と製造悌mas。
LIDT에서 表face粗偌役役割を果ため이것은더욱좋았습니다、HELの製造دは特殊な研磨技術が頻繁に使染とそれに伴у損傷を最小限に抑えuruために特別に選び 밖에 나가지 못하게 됩니다.
HEL 광학대학 이용을 위한 薄膜 코팅의 製造は, それ自体が独立した専文分야말로다.放熱性を高めRUために特別に最適化 れuruともありmas.また、코팅は、高에네르기레베르데요り顕著になり高調波発生や自己収束などの結线 光題効果を抑抑는 よуに設計 れ RU 可能性も ありま с 。
우르트라파스트레이자 빛과학系
우르트라파스트레이자(파르스幅が펨트秒または피코秒の範囲)용の光醫系와 코칭은 、別の独特なcrasnoconponett입니다.여기에 主に2つの理由がありまし。
마ず、우르트라파스트레이자は他のほとんどの레이자부도単colordedはありません。 れは、우르트라후ァー스트레이자의 능력에 대해 より、파르스幅が短ku가 につれて、출력의 특수 기술을 사용하여 波長の範囲（波長の範囲)が増加sur루ため 입니다. たとえば、일관된 비타라우르트라파스트레이자에 의해 생성될 수 있는 12 fs파르스は、中心은800nm입니다が、帯域幅は約100nm입니다.
우르트라파스트레이자 과학기술의 2番目の差別化要因は、多kuの場合、피크파 wer が不常に高 い と 입니다. れ р の ude 력 레베르 는 , 前 述 의 레이자 誘 起 損 傷 의 問 題 を 引 ki 起 는 可能性 が ありま 입니다 .
우르트라파스트레이자파르스의 모험가가 좋은 이것과によたて引広いとによたて引木起しれuru主な問題は、可視光ude使用은 れRUYIMINGGING 光題系の場合のよуにcolor収差dedはありません。代わりに、問題は群速tivity分散（GVD）입니다.
GVD는 우르트라파스트레이자파르스の異なり波長成分が、材料内をわずなに異なuru速島د伝わuruために発生しまし。したがたて、woo 르트라파스트레이자파르스가 빛을 내는 학문 분야에서 코팅을 하는 것이 일반적입니다.長は長い波長よりも少し遅れて現れまс。 koれによりPARSの長しが長ikuなりmas。
우르트라파스트레이자파르스は単색데히나쿠、사마ざMANA波長으로부터構成しれ마스 。파르스が短いほど、이것에 대한 설명이 없습니다. 우르트라파스트레이자파르스が材料を통통한가には、分散により短い波長が長い波長よりも遅ku移動しまс。 れにより、parssがtime的に広がり、pars幅が増加しままс。파르스圧縮mira-は、より速い波長をCotting内partへ深ku移Movie가동으로、이것은 効果を逆転しせmas。
파르스장이 긴 시간을 보내는 것과 같이, 용도에 따라 유용하게 쓰일 수 있는 시간分解能が低下しまс。また、多光子件 やCARS分光など、비선 형태의 現象에 依存사용할 수 있는 용도는 途に影響を与えuruparlsのピ-кpower も低減しまс。
우르트라파스트레이자 과학기술대학의 중대견크라스の1つは、「분파미라」여기 있습니다. 우르트라파스트레이자파르스의 분散効果を管이리하는 것이 더 낫습니다.
여기서 빛을 발하는 과학기술은 더 나은 방향으로 나아가고 있습니다. 、それぞれがわわずなに異なり波長に調整sれた複数の高反射코팅노스택크데 構成 れてい마스입니다.
이것저것、より短い波長の反射板がCottingの上身にあり、より長い波長の反射板がStackackのより深いとろに配置しれていり設計を考えてumiましょу。波長が長いほど、反射しれuru前に코팅을 をより遠ikuまたん過 su ru 必要 が あり、time が kan り 、 Parlsの 「遅い」成分が追いつku とになりまс。이것에 관해서는、以前に別の分散connポ-ネentを일반적으로過しために拡散したparlsを再圧縮効果がありまし。
分散mira-は、파르스を図的に長宝りためによku使用れまし。たとえば、parl Сは増幅器に入uru前に分散mira-de長akuしれuruとがありまс。 れにより, ピ・керу が低下し, 不常に高いreyザf 르엔스에 의해 よ よ て 増 器 광학 系 が 損 傷 sur ru 可 能性 が低減 れ mas . 파르스 が 増 幅 た 後 、 最初 の も の と 逆 の 効 果 を つ別の分散幅幅（CPA）と呼ばれまし。
이것은 레이자 빛공학 연구에 집중하고 있는 것입니다.바카라 카지노레이자광학교육에 대해 ついてより広範囲に調べて理解してKUだ囲。