엑시머 하이머
마이크로일렉트로닉스, 디스플레이, 과학 연구, 우스 및 전달에 고에너지 UV를 활용합니다.
- 대규모 필드 가공균일하게 크기 조정해서 조금 더 표면을 편집할 수 있습니다.
- UV 출력 기능을 갖춘 확장사전 생산에서 충분히 생산까지 범위를 인정합니다.
- 최고의 본인저온 프로세스에서 에너지를 선택적으로 전시합니다.
광범위한 엑시머 기하학
엑시머 분야에서 50년의 경험을 통해, 용도에 맞는 엑시머 레이저로 얻을 결과를 얻을 수 있다는 것을 알고 있습니다. 이것이 바로 우수한 품질과 성능을 중심으로 가장 광범위한 출력 및 에너지 옵션을 제공하는 이유입니다.
엑시스타
ExciStar 탁상용 UV 엑시머는 각막 형광, 전구 렌즈 제작 및 광학 기술 센서 같은 작업을 위해 설계되었습니다.
- 고반복률 - 최대 1kHz
- 테이블탑 - 필요한 공간 650x300mm.
- 193nm 또는 248nm - 정밀 제작 및 어블레이션.
인디스타
IndyStar는 잉크젯 노즐 드릴링, 용도에 맞게 테스트할 수 있습니다.
- 높은 맥박수 - 임시휴휴 어린이에도 최대 2kHz.
- Semicon 사용자 - Semi-S2 준수.
- 193nm 및 248nm - 리소그래피 개발, 마스크 및 광학 테스트, 마이크로프로세싱.
COMPex
COMPex UV는 다양한 용도에 대해 높은 범위를 다루며 수백 개의 밀리줄의 에너지를 제공합니다.
- 고에너지 - 수백 밀리줄.
- 다양한-193nm, 248nm, 308nm, 351nm.
- 박막 가공을 지원합니다.
도약
LEAP UV 엑시머 레이저는 높은 듀티 반환, 신뢰성 및 하이브리드 보상의 컴파운드로 고에너지, 고정밀 변환을 제공합니다.
- 광범위한 전력 수준의 선택 - 수준의 플랫폼은 최대 600와트의 수많은 제조, 사전 생산 및 개발을 지원합니다.
- Pulse-on-Deman - 공정한 방식을 조정하여 비용을 절감합니다.
- 다목적-샤샤를 통해, 전달 또는 표시를 위해 193nm, 248nm 및 308nm 모델을 선택합니다.
LAMBDA SX
LAMBDA SX는 생산 현장에 사용할 수 있는 UV 엑시머 및 축소와 함께 대면적 UV 처리를 지원하는 고고함을 가지고 있습니다.
- 고출력 – 최대 600W
- 펄스 에너지 - 최대 1000mJ.
- 높은 맥박수 - 최대 600Hz로 3교대 많이 생산.
바이퍼
수 kW까지 제공하는 VYPER UV 엑시머 홀로그램 플랫폼은 디스플레이를 많이 생산할 수 있도록 최고의 처리량을 지원합니다.
- 초고출력 – 최대 3600W.
- 매우 높은 에너지 - 최대 6J.
- 탁월한 본질은 - OLED 및 MicroLED 백플레이어를 지원합니다.
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